山东(h)Sn-S3d5/2和3d3/2的XPS光谱在486.1eV和494.5eV处出现峰。它还为集成光电电路、特高传感和生物医学成像中的可扩展应用提供了重要的技术启示。图三、工程不同厚度SnS层的表征(a)在SiO2/Si基底上制备SnS光电探测器的示意图。
因此,前期该工作为大面积合成代表性材料的超薄层提出了一条新途径,并且该材料适用于高性能光电探测器。(b)在光电探测器中,准备传导通道的单元晶格厚SnS的光学显微镜图像。
(c)在硫化物环境中,金上进入阶段合成SnS的TEM图像。
研究发现,湖北这些大面积SnS层存在从深紫外(UV)到近红外(NIR)(280-850nm)波长范围内的宽带光谱响应,具有快速的光检测能力。在卤素空位缺陷驱动和胺配体辅助作用下,陇东纳米线沿[011]晶向生长,并发生自组装,促进表面缺陷的自愈合,从而实现91%的量子产率。
最近,山东绿色(~525nm)、深红(650-680nm)和近红外(~800nm) PeLED已经实现了20%以上的外量子效率(EQE)。(a)初始NCs、特高中间相NWs和自组装NWs的XRD图谱、(b)FTIR光谱和(c)高分辨率XPS光谱。
然而,工程红光发射(620~650nm)PeLEDs通常是通过由溴和碘阴离子混合钙钛矿实现的,工程混合卤素产生的缺陷位点会加快离子迁移速度,增加非辐射损失,导致器件运行时相分离,影响了它们的实际应用。前期【图片导读】图1.晶体的结构表征。